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GASERA-F10型痕量級多組分氣體分析儀

簡要描述:痕量級雜質(zhì)氣體比如烴類、H2O、CO、CO2、NOx、N2、H2S等會對高純氦、高純氫、高純氮、其他高純氣體、標準氣體以及烯烴類氣體的生產(chǎn)帶來危害,損壞設備和影響生產(chǎn)質(zhì)量,甚至對使用這些氣體的設備帶來致命威脅。芬蘭干涉公司研發(fā)的GASERA-F10型痕量級多組分氣體分析儀專門專業(yè)監(jiān)測并分析ppm微量級、ppb超微量級雜質(zhì)氣體。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-10-11
  • 訪  問  量:2326

詳細介紹

品牌其他品牌應用領域化工

概述

痕量級雜質(zhì)氣體比如烴類、H2O、CO、CO2、NOx、N2、H2S等會對高純氦、高純氫、高純氮、其他高純氣體、標準氣體以及烯烴類氣體的生產(chǎn)帶來危害,損壞設備和影響生產(chǎn)質(zhì)量,甚至對使用這些氣體的設備帶來致命威脅。芬蘭干涉公司研發(fā)的GASERA-F10型痕量級多組分氣體分析儀專門專業(yè)監(jiān)測并分析ppm微量級、ppb超微量級雜質(zhì)氣體。

GASERA-F10型痕量級多組分氣體分析儀

原理

GASERA-F10多氣體分析儀基于紅外光聲光譜技術,擁有脈沖紅外光源,通過窄帶光學濾波片,形成中紅外區(qū)10個光譜波段,用于氣體分析;超高靈敏度基于的擁有增強懸臂梁光學麥克風技術,可通過10種光學窄帶濾波片實現(xiàn),極窄的光學濾波可去除背景氣體的干擾;多個光譜區(qū)域可有利于最小的交叉靈敏度。對采樣響應結(jié)果按照改進的經(jīng)典最小二乘法進行數(shù)據(jù)校準。

光聲光譜技術可實現(xiàn)短光路光程的高靈敏度測量,更進一步提高了非線性補償技術,可實現(xiàn)寬量程可達5級的線性動態(tài)量程比。

氣體

1)烴類:CH4、C2H6、C2H2、C2H4等

2)無機氣體: CO2、CO、N2O、SO2、NO、NO2, NH3、NF3、SF6、H2O等

3)揮發(fā)性有機物VOCs:甲醇、甲醛、丙酮、二甲苯、乙醇、苯、 甲苯、等

4)氟利昂(CFCs)及 全氟化碳(PFCs): CF4、 C2F6、R-134a、R13等

5)腐蝕性氣體:HF、HCL、HCN等

7)其他氣體:N2、H2、O2等(可選、擴展探頭);

8)被測氣體可定制;

應用

  • 高純氣雜質(zhì)氣體                              泄漏檢測

    過程質(zhì)量控制                                  熏蒸氣體

    工業(yè)安全和衛(wèi)生                              廢麻醉氣體

    家禽養(yǎng)殖,生豬養(yǎng)殖 農(nóng)業(yè)                     溫室氣體

    大氣污染物排放                              發(fā)酵

    液態(tài)烴中雜質(zhì)氣體                         其他痕量氣體分析

    特性

    1)同時測量高達9種氣體

    2) ppb,sub-ppm級的檢測限

    3)即采即測、實時分析、秒級響應時間

    4)長的標定周期、低的樣氣量

    5)高分辨率圖形顯示界面,友好人機交互界面

    6)豐富的可編程測量任務

    7)圖形和表格顯示全部氣體的測量結(jié)果

    8)內(nèi)置趨勢查看監(jiān)控任務,

    9)不需要外部的電腦

    10)無耗材、免維護

    11)4~20mA模擬量、RS232、RS485通訊

    12)堅固耐用的外殼設計

    優(yōu)點

    1)帶有增強懸臂梁光學麥克風的紅外光聲光譜 技術

    2)電子脈沖紅外光源

    3)鍍金采樣氣室恒定溫度50°C

    4)超靈敏的基于MEMS懸臂梁傳感器光學麥克風,耦合激光干涉測量懸臂梁微觀移動

    5)19"3U工業(yè)機箱,適用于全部臺式或機架固定安裝

    6)內(nèi)置帶有5.7"前置顯示器的嵌入式計算機 可設置氣體報警閾值

    7)數(shù)據(jù)存儲約2GB,連續(xù)存儲9種氣體可達1年

    8)測量結(jié)果可以通過U盤,Ethernet網(wǎng)口,串口,USB口導出

    9)后面板有四路氣體連接口,兩路為采樣接口, 配有粉塵顆粒物過濾器

    10)自動補償溫度、壓力等變化工況的干擾

    11)自動去除包括水汽、顆粒物等采樣氣體的干擾


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